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EUV 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，只有 ASML 公司才能生產(chǎn)，單臺(tái)售價(jià)約 10 億人民幣，之前三星、臺(tái)積電等公司還要搶著買，然而今年半導(dǎo)體形勢已經(jīng)變了，EUV 光刻機(jī)反而因?yàn)楹碾娞?，臺(tái)積電計(jì)劃關(guān)閉省電。
來自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機(jī)晶片達(dá)人的消息稱，由于先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率開始下滑，而且評估之后下滑時(shí)間會(huì)持續(xù)一段周期，臺(tái)積電計(jì)劃從年底開始，將部分 EUV 設(shè)備關(guān)機(jī)，以節(jié)省 EUV 設(shè)備巨大的耗電支出。
據(jù)了解臺(tái)積電目前擁有大約 80 臺(tái) EUV 光刻機(jī)，主要用于 7nm、5nm 及以下的先進(jìn)工藝，今年 9 月份還會(huì)量產(chǎn) 3nm 工藝，都需要 EUV 光刻機(jī)，然而隨著 PC、手機(jī)、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑，先進(jìn)工藝生產(chǎn)的芯片勢必會(huì)受到影響。
蘋果今年的 iPhone 14 Pro 系列的 A16 處理器也沒有急著上 3nm 工藝，還在用 4nm 工藝，此外蘋果還因?yàn)?3nm 能效問題，取消了初代 3nm 生產(chǎn)芯片的計(jì)劃。
相比之前的 DUV 光刻機(jī)，EUV 光刻機(jī)需要使用高能激光器，而且光線會(huì)多次折射導(dǎo)致?lián)p耗極大，早期效率只有 0.02%，現(xiàn)在量產(chǎn)的說是可以達(dá)到2% 效率，但也意味著絕大多數(shù)電力都要消耗掉。
EUV 光刻機(jī)生產(chǎn)一天需要 3 萬度電左右，一年耗電大約 1000 萬度，是十足的電老虎。
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